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9寸以上,苏打匀胶铬版,光掩膜基版
详细介绍:
产品描述:     匀胶铬版是制作微细光掩膜图形的感光空白板,在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。 应用领域:  匀胶铬版应用于半导体芯片制造、半导体显示、光学行业掩膜版、PCB等领域。   9寸(含)以上苏打匀胶铬版   铬膜性质:   [详细]

9寸以上,石英匀胶铬版,光掩膜基版
详细介绍:
产品描述:   匀胶铬版是制作微细光掩膜图形的感光空白板,在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。 应用领域:      匀胶铬版应用于半导体芯片制造、半导体显示、光学行业掩膜版、PCB等领域。    9寸(含)以上石英匀胶铬版       铬膜性质:      [详细]

7寸以下,苏打匀胶铬版,光掩膜基版
详细介绍:
产品描述:   匀胶铬版是制作微细光掩膜图形的感光空白板,在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。 应用领域:   匀胶铬版应用于半导体芯片制造、半导体显示、光学行业掩膜版、PCB等领域。      7寸(含)以下苏打匀胶铬版 铬膜性质:       [详细]

7寸以下,石英匀胶铬版,光掩膜基版
详细介绍:
产品描述:   匀胶铬版是制作微细光掩膜图形的感光空白板,在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。 应用领域:   匀胶铬版应用于半导体芯片制造、半导体显示、光学行业掩膜版、PCB等领域。    7寸(含)以下石英匀胶铬版    铬膜性质:       [详细]

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